Ultra C wb, ACM의 특허 출원중인 질소 버블링 기법으로 습식 식각 균일성 개선 및 향상된 클리닝 성능 제공
ACM 리서치(ACM Research)는 Ultra C wb 세정 장비에 대한 주요 업그레이드를 발표했다. 새로운 개선 사항은 첨단 노드 제조 공정의 엄격한 기술적 요구사항을 충족하도록 설계되었다.
업그레이드된 Ultra C wb는 ACM의 특허 출원중인 질소(N2) 버블링 기법을 통해 습식 식각(wet etching)의 균일성 저하 및 부산물 재증식 문제를 해결한다.
이들 문제는 첨단 노드 공정에서 높은 종횡비 트렌치 및 비아 구조에서 인산(phosphoric acid)을 사용하는 기존의 습식 벤치 공정에서 자주 발생한다. 질소 버블링 기법은 인산의 전달 효율을 향상시키고 습식 식각조 내의 온도, 농도, 유속의 균일성을 높인다. 습식 식각 공정의 향상된 질량 전달 효율은 웨이퍼 미세 구조 내 부산물 축적을 방지하여 재증식을 막는다.
ACM의 회장 겸 최고경영자(CEO)인 데이비드 왕(David Wang) 박사는 “성능을 최우선으로 고려하여, ACM은 질소 버블링 기법을 통합해 Ultra C wb 장비를 개선함으로써 보다 향상된 결과를 제공하도록 했다”고 밝히고, “배치 처리(batch processing)는 습식 공정 분야에서 비용 효율성, 향상된 효율, 그리고 단일 웨이퍼 습식 세정에 비해 화학물질 사용 저감 등의 다양한 이점을 제공하는 중요한 요소”라고 말했다.
업그레이드된 Ultra C wb는 중국 본토의 주요 팹에서 공정 검증을 통과했으며, 여러 차례 재구매 주문을 받았다. 현재 여러 고객사가 해당 장비를 평가 중이며, 올해 말까지 장비들을 추가로 공급하게 될 것으로 예상된다.
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