프랙틸리아, EUV 패턴 제어 및 수율 향상 위해 FAME 포트폴리오 추가해
  • 2023-02-22
  • 박종서 기자, paper@elec4.co.kr

프랙틸리아는 자사의 FAME™(프랙틸리아 자동화 측정 환경) 포트폴리오에 최신 제품인 FAME 300을 추가한다고 밝혔다. 

대량 제조(high-volume manufacturing, 이하 HVM) 팹 환경에서의 사용을 위해 특별히 설계된 FAME 300은 첨단 노드 공정에서 패터닝 오류의 주된 원인인 스토캐스틱 효과를 실시간으로 측정, 감지 및 모니터링할 수 있다.
 


FAME 300을 사용할 경우, 팹에서 스토캐스틱 변이로 인해 발생하는 잠재적 공정 문제를 단 몇 분만에 파악할 수 있어, 신속한 수정 조치를 통해 자사의 패터닝 공정에 대한 제어를 개선하고 수율을 최적화할 수 있다.

FAME 300은 프랙틸리아의 FILM(Fractilia Inverse Linescan Model) 특허 기술을 활용한다. 이 기술은 CD(Critical Dimension; 임계 선폭) 측정뿐 아니라 거칠기를 포함한 다양한 스토캐스틱 효과를 고도로 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 유일한 팹 솔루션이다. 

프랙틸리아의 제품은 반도체 제조사, 장비 회사 및 반도체 원재료 공급사의 연구 개발 및 공정 개발 환경에서 이미 검증되었다. 
프랙틸리아 제품을 사용하여 수행된 모든 측정은 연구 개발 단계에서 HVM 단계로 이전될 수 있으며 완전 자동화가 가능하다.
 
스토캐스틱은 첨단 노드 공정에서 수율에 점점 많은 영향을 미치고 있으며, EUV 공정의 경우 전체 패터닝 오류의 50% 이상을 차지할 있다(출처: 프랙틸리아)
 
프랙틸리아의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “반도체 업계가 지속적인 미세화를 통해 무어의 법칙을 계속 유지해 나가고자 함에 따라 업계 선도적인 팹들은 갈수록 악화할 뿐인 스토캐스틱 변동이 크게 늘어나는 것을 경험하고 있다. 신규 팹 공정이 우수한 수율을 나타낼 수 있도록 제어하기 위해서는 스토캐스틱에 대한 정확한 측정이 필요하다”고 밝혔다.

또한, “프랙틸리아는 FILM 측정 엔진을 높은 처리량과 신뢰성, 낮은 대기 시간이 특징인 새로운 FAME 300 플랫폼에 통합함으로써 스토캐스틱 분석 기능을 팹 HVM 환경에 도입했다. 이제 프랙틸리아의 고객은 자사의 HVM 프로세스를 더 잘 제어하고, 제품의 스토캐스틱 문제를 해결하는 것과 관련하여 수 개월을 절약할 수 있을 것”이라고 말했다.

새로운 FAME 300 플랫폼은 전체 팹에 대한 모든 SEM 이미지를 측정하는 데 필요한 처리량을 달성할 수 있을 만큼 확장성이 뛰어난 쿠버네티스(Kubernetes) 클러스터 기반 아키텍처를 활용한다. FAME 300은 지연 시간이 줄어들어, 팹에서 전방 피드포워드(feed-forward) 또는 피드백(feedback) 프로세스 제어에 사용할 수 있는 실행 가능한 데이터를 단 몇 분 만에 얻을 수 있게 해준다. 

FAME 300의 응용 분야에는 인라인(in-line) 미션 크리티컬 활용 사례와 HVM 모니터 활용 사례 등이 포함되며, 이 밖에 랏 배치(lot dispositioning), 실시간 일탈 감지(excursion detection), 에지 배치 오류 최적화, 리소그래피 및 식각(etch) 공정 장비 모니터링, SEM 장비 모니터링, SEM 플릿 매칭(fleet matching), 식각 장비 챔버 매칭 등 다양한 응용 또한 가능하다. 

프랙틸리아의 에드워드 샤리에(Edward Charrier) CEO 겸 사장은 “프랙틸리아의 FILM 기술은 스토캐스틱 분석의 업계 표준”이라고 밝히고 “지금까지 우리는 선도적인 반도체 디바이스 제조사, 주요 장비 제조회사, 원자재 공급업체, 연구 컨소시엄 등의 R&D 분야에서 1,000명 이상의 제품 사용자를 확보했으며, OPC(optical proximity correction), 리소그래피, 식각, 증착, 측정 및 검사, 재료 및 기타 공정에 걸쳐 수많은 입증된 활용 사례를 보유하고 있다"고 말했다.

그는 이어, "프랙틸리아 고객들에 의해 측정되는 SEM 이미지 수는 해마다 두 배 이상씩 증가하고 있다. 현재 반도체 업계에서는 프랙틸리아가 개발한 정확한 스토캐스틱 분석 기술을 HVM에 적용할 필요성이 분명히 있다. 프랙틸리아의 고객들은 HVM 패터닝 공정을 보다 정확하고 강력하게 제어할 수 있는 새로운 FAME 300 시스템을 통해 이를 실현할 수 있다”고 말했다.

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