인프리아, EUV 금속산화물 레지스트 적용위해 SK하이닉스와 공동 개발하기로

2022-08-04
신윤오 기자, yoshin@elec4.co.kr

JSR코퍼레이션(JSR Corporation)이 JSR 그룹사인 인프리아(Inpria)의 EUV(Extreme Ultraviolet) 금속산화물 레지스트(MOR)를 적용하기 위해 SK하이닉스와 공동 개발하기로 했다고 발표했다.

인프리아는 EUV용 금속산화물 포토레지스트에 대한 광범위한 특허를 보유하고 있으며 고객사가 첨단 노드 디바이스 아키텍처를 효율적으로 패터닝(patterning)할 수 있도록 지원한다.

인프리아 재료 솔루션은 EUV 패터닝 비용을 크게 줄이는 데 필요한 성능을 제공하며 입증된 공정 및 장비 구성과도 호환이 가능하다. 인프리아의 MPR은 표준형 스핀 코팅 공정에 적용할 수 있다.

BK 리(BK Lee) SK하이닉스 연구개발 프로세스 총괄은 “EUV 제조 기술은 대단히 복잡하며 최첨단 재료가 필요하다”며 “주석 산화물 레지스트는 차세대 첨단 D램을 위한 성능과 저렴한 제조 비용이라는 두 마리 토끼를 잡을 수 있다”고 말했다.

스하라 타다히로(Tadahiro Suhara) JSR 이사는 “JSR의 기술은 항상 소재 혁신에 기반을 두고 있다”며 “최소 선폭 형성을 지원해 SK하이닉스의 기술 로드맵에 속도를 낼 수 있도록 노력할 것”이라고 밝혔다. 이어 “기술은 물론 경제성도 선도할 것”이라고 덧붙였다.

EUV는 반도체 제조에 사용되는 최첨단 리소그래피 공정으로 이미 상업적으로 사용되고 있다. 또한 업계가 칩 제조의 소형화로 방향을 전환하면서 사용이 크게 확대될 전망이다.

인프리아는 금속산화물 EUV 레지스트 분야를 선도하는 세계적 기업으로 EUV 노출 시스템을 활용해 세계 최고 수준의 해상도를 달성했다. JSR은 2021년 인프리아를 인수했으며 EUV 채택이 계속 증가하면서 대량 제조를 위한 생산 용량 및 고객 지원 서비스 확대에 투자하고 있다.

#반도체 #부품

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