Ultra C vac-p 패널 레벨 제품 출시, 진공 기술과 IPA 건조 기술을 활용해 세정 효율을 높여
ACM 리서치(ACM Research)는 팬아웃형 패널 레벨 패키징(FOPLP) 애플리케이션에 적합한 Ultra C vac-p 진공 세정 장비를 출시했다고 밝혔다.
이 장비는 진공 기술을 이용해 칩렛 구조 내의 플럭스 잔여물을 제거하며, 세정 효율을 크게 향상시켰다. 이는 ACM가 고성장 중인 팬아웃형 패널 레벨 패키징 시장에 성공적으로 진입했음을 의미한다. ACM은 한 중국 대형 반도체 제조회사가 Ultra C vac-p 패널 레벨 진공 세정 장비를 주문했으며, 해당 장비는 7월에 이 고객의 공장에 납품됐다고 발표했다.
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ACM의 사장겸 CEO인 데이비드 왕(David Wang) 박사는 “인공지능(AI), 데이터센터 및 자율 주행 자동차 시장을 중심으로 더욱 강력한 연산 능력과 더 낮은 지연 시간, 그리고 더 높은 대역폭이 요구됨에 따라 FOPLP는 이제 핵심적인 기술로 떠오르고 있다”고 밝혔다.
또한 “FOPLP는 여러 칩, 수동 소자 및 인터커넥트를 패널 상의 단일 패키지에 통합하여 더 높은 유연성, 확장성 및 비용 효율성을 제공한다. Ultra C vac-p 패널 레벨 진공 세정 장비는 ACM이 차세대 첨단 패키징 기술의 세정 문제를 해결하는 데 중요한 걸음을 내디뎠음을 나타내며, 반도체 제조 분야의 지속적인 혁신을 상징한다. 이는 ACM이 지속적으로 변화하는 업계 요구를 충족시키기 위해 노력하고 있다는 확고한 약속을 실현한 것이다”라고 말했다.
욜 그룹(Yole Group)에 따르면, 팬아웃형 패널 레벨 패키징 방법의 애플리케이션 성장 속도는 팬아웃 시장 전체 성장 속도보다 빠르며, 시장 점유율은 2022년 2%에서 2028년 8%로 증가할 것으로 예상된다. FOPLP 성장의 주요 동력은 비용 절감이다.
예컨대 전통적인 실리콘 웨이퍼는 형태가 원형이라 웨이퍼의 사용률이 85% 미만인 반면, 패널은 형태가 직사각형 또는 정사각형 이기 때문에 웨이퍼 사용률이 95% 이상이다. 600 x 600 밀리미터 패널의 유효 면적은 기존 300 밀리미터 실리콘 웨이퍼 유효 면적의 5.7배로, 전반적으로 약 66%의 비용 절감이 가능하다. 이러한 면적 활용률의 증가는 더 높은 생산성, 더 큰 AI 칩 설계 유연성 및 상당한 비용 절감을 가져온다.
Ultra C vac-p 장비는 첨단 패키징 공정의 중요한 단계를 처리하며, 특히 언더필 전에 플럭스 잔여물을 제거하는데, 이는 보이드(void), 즉 언더필 간극을 없애는 데 있어서 중요한 작업이다. 기존의 세정 방법은 표면 장력과 제한된 액체 침투력 때문에 작은 범프 간격(40 마이크로미터 이하)과 대형 칩을 처리하는 데 있어서 어려움을 겪는다.
ACM의 새로운 장비는 진공 세정을 통해 세정액이 좁은 틈에 도달할 수 있도록 하여 이 문제를 효과적으로 해결한다. 또한 세정액이 더 긴 거리를 통과해야 하기 때문에 기존 방법으로는 처리할 수 없던 대형 칩 유닛의 세정 요구도 충족할 수 있다. 이 진공 세정 기능 장비는 ACM 고유의 IPA 건조 기술을 결합함으로써 전체 칩 유닛, 심지어 중심 부분까지도 철저히 세정할 수 있어 잔여물이 장치 성능에 미치는 영향을 효과적으로 방지할 수 있다.
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