- 업계 최초 EUV노광장비 NXE플랫폼, 1일 약 600장의 웨이퍼 처리능력 입증
- 여타 고객사의 지난 7월 장비 테스트 결과도 637장으로 기준 (500장) 상회
세계 최대의 반도체 장비 업체인 네덜란드 ASML이 다시 한 번 극자외선(EUV) 노광장비의 성능 향상을 인정 받았다.
ASML은 EUV노광장비인 NXE: 3300B가 24시간 이내에 약 600장 규모의 웨이퍼를 처리하게 됐음을 고객사로부터 확인했다고 3일 밝혔다. 이는 고객사가 요구했던 하루 500장 규모의 웨이퍼 처리 능력을 넘는 결과다.
이번 테스트는 EUV장비의 내구성을 실험하고 생산성을 확인하기 위한 절차다. ASML은 이미 지난 7월 진행됐던 유사 테스트에서 1일 637장의 웨이퍼 처리 능력을 인정 받은 바 있다.
피터 베닝크 (Peter Wennink) ASML CEO는 “EUV 노광장비의 성능 향상에 대해 다시 한 번 인정받게 돼 기쁘게 생각한다.”며, “보다 정확한 성능을 위해서는 많은 시스템에서 이러한 성과가 계속 반복되어야 하는 만큼, 올해 안에 ASML의 성능 개선 프로그램을 지속적으로 이어갈 것”이라고 말했다.
한편, ASML은 업계 최초로 극자외선 리소그래피 (EUVL) 생산 플랫폼 NXE를 선보이며, 반도체 노광 분야를 이끌어 가고 있다. NXE: 3300B는 개선된 오버레이(Overlay)와 변형조명법 (Off-axis illumination)이 적용된 18나노공정을 지원하는 차세대 노광 장비다.
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