반도체 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 토마루 히토시)는 신제품인 최첨단 액침 노광(리소그래피) 장치용 ArF 엑시머 레이저 ‘GT65A’를 발표했다. 이 제품은 2017년 연내 출하를 목표로 하고 있다.
GT65A는 기가포톤의 ArF 플랫폼의 특징인 뛰어난 스펙트럼 컨트롤 기술을 더욱더 진화시킴으로써 1Xnm(나노미터) 이하의 미세화 프로세스를 지원한다. 또한 환경부담 절감 기술을 표준으로 탑재하고 있으며 모든 운전조건 하에서의 무헬륨(Helium Free) 운전 및 네온가스 재활용 장치인 ‘hTGM’ 대응을 표준장비로 갖추고 있다.
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GT65A의 스펙트럼 컨트롤은 두 가지 최신기술을 표준으로 탑재했다. 그 중 한 기술은 종래의 기종과 비교하여 스펙트럼 성능 안정성을 4배 높인 ‘eMPL Solid’이다. eMPL Solid는 스펙트럼 폭(E95)의 안정성을 노광 필드마다 ±5fm(펨토미터)라고 하는 높은 레벨에서 실현하였으며 CD균일성 향상에 기여한다. 나머지 기술은 스펙트럼 폭을 450fm에서 200fm까지 컨트롤 하는 ‘hMPL’이다. hMPL은 스펙트럼 폭을 프로세스에 따라 최적화함으로써 프로세스 윈도우의 최대화에 기여한다.
또한 GT65A가 표준장비로 갖추고 있는 기가포톤의 에코포톤(EcoPhotonTM) 프로그램에 따라 개발된 무헬륨 및 hTGM 기술은 환경부담 절감뿐 아니라 향후 헬륨가스와 네온가스의 공급부족 및 가격에 대한 리스크를 대폭 줄임으로써 고객 지속가능성 향상에도 기여한다.
기가포톤 대표이사 사장 토마루 히토시는 “당사의 신제품 ‘GT65A’는 끊임없이 미세화에 도전하는 반도체 장치 업계에 기가포톤이 제시하는 솔루션 중 하나이며 창업 이래 업계에 대한 변함없는 약속과 노광기 제조업체에 대한 공헌의 증거이기도 하다”고 말했다. 이어 “기가포톤은 앞으로도 노광 성능 향상을 위해 지속적으로 기술에 투자하겠다”고 밝혔다.
GT65A를 비롯한 기가포톤의 ArF 엑시머 레이저에 대해서는 미국 캘리포니아주 새너제이에서 2월 26일(미국시간)부터 3월 2일까지 개최되는 ‘첨단 노광 국제 심포지엄(SPIE Advanced Lithography 2017)’에서 발표할 예정이다.
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