NI, 반도체 테스트 시스템의 PXI SMU 채널 집적도 6배 향상시켜

  • 2018-01-31
  • 박종배 기자, jbpark@elec4.co.kr

엔지니어 및 과학자들이 세계에서 가장 까다로운 엔지니어링 문제를 해결할 수 있도록 플랫폼 기반 솔루션을 제공하는 내쇼날인스트루먼트(ni.com/korea, 이하 NI)가 고집적도 소스 측정 장치(SMU) PXIe-4163을 발표했다. 이 제품은 테스트 RF, MEMS, 혼합 신호 및 기타 아날로그 반도체 부품을 테스트하기 위한 기존의 NI PXI SMU보다 6배 향상된 DC 채널 집적도를 제공한다.

NI의 글로벌 세일즈 및 마케팅 부사장인 에릭 스타크로프(Eric Starkloff)는 "5G, IoT(사물 인터넷), 자율주행차처럼 매우 획기적인 기술로 인해, 반도체 생산업체는 개발에서 양산에 이르기까지 더 효율적인 반도체 테스트 방식을 발전시키고 도입해야 하는 부담을 지속적으로 안고 있다”라고 말하고, “반도체 테스트는 NI가 전략적으로 주력하는 분야이다. 당사는 반도체 제조업체가 주요 당면 과제를 해결할 수 있도록 소프트웨어 플랫폼과 PXI의 기능을 확장하고 있으며, 이 최신 PXI SMU가 그 대표적인 예이다"라고 밝혔다.

 
반도체 제조업체는 양산 라인의 비용과 사용 공간을 활용해 스루풋 및 성능에 대한 반도체 테스트 시스템(STS)을 빠르게 도입하고 있다. 새로 출시된 PXIe-4163 SMU는 이러한 기능을 더욱 보완한다. 이 제품은 DC 채널 집적도를 증가시켜 다중 사이트 애플리케이션의 병렬 처리 기능을 높이고, 즉시 생산 가능한 폼 팩터의 R&D 등급 측정 품질을 향상시킨다. 엔지니어는 이러한 조합을 활용하여 검증 단계와 양산 테스트에서 동일한 장치를 사용할 수 있으며, 이는 측정 상관관계 분석으로 인한 문제(Data Correlation) 를 줄이고 제품 출시 기간을 단축해준다.

엔지니어는 STS 구성 또는 독립형 PXI 시스템에서 최신 PXIe-4163 SMU를 사용할 수 있다. 주요 제품 기능은 다음과 같다.

단일 PXI Express 슬롯에서 최대 24개 채널 가능
채널당 +/- 24V
채널당 최대 100mA 소스/싱크
100pA의 전류 감도
최대 100kS/s의 샘플링 속도 및 업데이트 속도
SourceAdapt로 오버슛 및 진동 최소화
인터랙티브 구성 및 디버그 소프트웨어
단일 PXI 섀시에서 고정밀 SMU 채널 최대 408개 지원(랙 공간 4U)
시스템 레벨 배선, 보정, 핀 매핑 지원 등 STS에서 완전한 지원 제공
 
2014년에 출시된 STS는 반도체 양산 테스트에 대해 근본적으로 다른 접근 방식을 제공한다. STS는 엔지니어가 보다 스마트한 테스트 시스템을 구축할 수 있는 NI PXI 플랫폼을 기반으로 한다. PXI 플랫폼에는 1GHz 대역폭을 갖춘 벡터 신호 트랜시버(Vector Signal Transceiver), fA 등급의 SMU, 업계 최고의 상업용 표준 재고 테스트 관리 소프트웨어인 TestStand 및 DC에서 mmWave에 이르는 600개 이상의 PXI 제품이 포함되어 있다.

 

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