반도체 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(대표이사 토마루 히토시)는 현재 개발 중인 EUV 스캐너용 레이저 생성 플라즈마(LPP) 광원에 대해 국립연구개발법인 신에너지·산업기술종합개발기구(NEDO)의 조성 프로그램 성과인 최첨단 반도체 양산 설비 가동을 상정한 파일럿 광원에서 자체 개발 기술인 자기장을 이용한 Debris Mitigation(잔해물 제거법)이 집광 미러 수명연장에 효과적이라는 것을 입증했다고 발표했다.
고출력 운전 시에는 이 미러가 발광 시의 타깃인 주석에 오염되기 때문에 집광 미러의 사용 기간이 너무 짧아 실용화에 커다란 장애였다. 이번에 기가포톤은 특허 등록이 완료된 기술인 자기장을 사용한 Debris Mitigation 기술을 100W 레벨의 운전에서 양산 공장 대응 EUV 리소그래피용 파일럿 광원에 탑재한 실험을 통해 집광 미러의 수명연장 효과(반사율 저하율0.5%/10억 펄스 이하)를 확인했다. 이 데이터는 종래의 연속 운전에서 몇 주간이 한계였던 집광 미러의 사용시간을 연장할 수 있는 가능성을 시사한다.
기가포톤 대표이사 부사장 겸 CTO인 미조구치 하카루 씨는 “최첨단 반도체 양산 설비에서의 가동을 상정한 파일럿 광원으로 자기장 Debris Mitigation 기술의 유효성이 실증됨으로 인해 기술의 심각한 난관을 해소하여 EUV 광원이 시장 도입에 성큼 다가서게 됐다. 기가포톤은 앞으로도 EUV 광원의 개발을 통해 반도체 산업 발전 및 IoT 사회 실현에 기여해 나가고자 한다”고 말했다.
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